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Finesse de gravure : 2,7 fois plus de transistors pour le 10nm sur le 14nm
Écrit par Guillaume 09-07-2018

Si la majeure partie des processeurs Intel est actuellement fabriquée grâce au processus 14 nanomètres, le fondeur cherche déployer ce que l’on connaît aujourd’hui sous l’appellation 10 nanomètres ou nm. Pourquoi un tel changement ? Dans les faits, comment se traduirait ce passage à une finesse de gravure plus importante ? Quels bénéfices la société américaine pourrait en retirer ?

Très en retard sur les plans qu’ils avaient présenté à la presse au travers de plusieurs événements, Intel ambitionne malgré tout de franchir très prochainement ce passage vers le 14nm. Pour être tout à fait honnête soulignons le fait qu’Intel produit déjà quelques microprocesseurs via cette technologie qu’il semble toutefois avoir encore quelques difficultés à maîtriser. Ainsi, le Core i3-8121U de génération Cannon Lake est un de ces rares processeurs Intel gravé en 14nm. Il prend notamment place au sein des portables Lenovo modèle Ideapad 330. L’observation en détail de cette puce et de son die a permis à nos confrères de TechPowerUp de faire le point sur les améliorations qu’un tel changement de gravure peut autoriser.

Dans l’industrie électronique et donc dans la fabrication de microprocesseurs, on utilise un procédé baptisé photolithographie. Celle-ci débouche sur la création de galettes le plus souvent en silicium que l’on nomme des wafers. Ces derniers sont ensuite découpés pour obtenir les puces en elle-mêmes avec toutefois un certain déchet car la forme ronde des wafers abouti nécessairement à des puces partielles – et inutilisables – sur l’extérieur de la galette. Le terme de 14 nanomètres se réfère – schématiquement – à la finesse de ce processus de gravure et de manière on ne peut plus logique, plus ce chiffre est faible, plus la précision est grande.

Pour les industriels, l’obtention d’une finesse de gravure toujours plus fine est capitale. Intel a notamment précisé que le passage du 14nm au 10nm devrait permettre d’augmenter la densité des transistors sur les wafers : une multiplication par 2,7 est même évoquée ! Et Intel d’avancer le chiffre de 100,8 millions de transistors par mm² ce qui permettrait de produire des die de 127 mm² regroupant rien de moins que 12,8 milliards de transistors. Nous parlons donc ici de garder la même taille de die pour augmenter le nombre de transistors. Pour Intel, l’autre intérêt du 10nm est évidemment de pouvoir conserver un très grand nombre de transistors en réduisant la taille du die… pour davantage de cœurs sur une même puce ou pour des puces toujours plus petites.

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