El proceso de grabado 18A de Intel parece cada vez más prometedor a pocos meses de la producción en serie.
Del 8 al 12 de junio de 2025 se celebró en Kioto (Japón) el Simposio sobre Tecnología y Circuitos VLSI. Una conferencia internacional centrada íntegramente en las tecnologías de producción de semiconductores. Como nos recuerda Wccftech, el VLSI Symposium era una oportunidad demasiado buena para que Intel la desaprovechara, cuando hace tan solo unos días era TSMC quien era noticia. El fabricante taiwanés fue noticia cuando se informó de que el rendimiento de sus líneas de producción N2 había alcanzado un impresionante 60%. Esto es un buen augurio para la producción de los primeros chips N2 (2nm) antes de finales de año, para AMD, Apple y NVIDIA.
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Pero volvamos a Intel, que ha querido tranquilizar a sus inversores respondiendo a estos rumores de aumento de la rentabilidad de TSMC. En Intel, el futuro del grabado no está en los 2nm, sino en los 1,8nm con el proceso Intel 18A. Por ello, la empresa estadounidense quiso aprovechar el Simposio VLSI para hacer balance de la situación y afirmar, por ejemplo, que a igualdad de voltaje, Intel 18A es capaz de ofrecer un rendimiento un 15% superior al de su mejor tecnología actual, Intel 3.
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Gracias a su grabado más fino, el Intel 18A también debería ofrecer un aumento de la frecuencia máxima posible, con un orden de magnitud de +25% a favor del Intel 18A frente al Intel 3. Por último, el grupo americano menciona el ahorro de energía que permite este nuevo proceso de grabado: al mantener una tensión de 0,75 voltios, Intel afirma una reducción del 40% del consumo de energía para el Intel 18A en comparación con el Intel 3. Lógicamente, todas estas cifras apuntan en la buena dirección y sugieren un futuro más prometedor para Intel, pero debemos tener en cuenta que la producción de Intel 18A no comenzará hasta finales de año, antes de despegar realmente a principios del año que viene.
